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镀银系列

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DYAG-II A 镀银光亮剂

添加时间:2018/11/26 18:22:32


一、简介

DYAg-II 是一种卓越的光亮电镀银工艺,可以镀出任意厚度的镜面光亮的银镀层,此工艺兼具装饰性和功能性,广泛应用于电子电镀工业和五金、珠宝电镀行业。能够与多种类型的银保护剂配套,获得极佳的装饰性、电特性和防变色性能。

二、工艺特点

1、镀层柔软光亮、纯度高,银含量≥99.9%(W/W);

2、可镀任意厚度而能保持镜面光亮,无需镀后的浸亮工艺;

3、采用非金属型的光亮剂,操作和调控极其方便;

4、镀层的可焊性好,接触电阻小;

5、可以在甚高的电流密度下施镀,沉积速度快;

6、镀层硬度(Vickers)100-130;

7、本工艺的设备适应性好,挂镀、滚镀和高速镀均宜。

三、镀液组成

原料

单位

范围

最佳

Ag(银)挂镀

g/L

10-40

25

Ag(银)滚镀

g/L

5-20

15

KCN(游离氰化钾)

挂镀

g/L

90-150

120

滚镀

g/L

90-150

120

KOH(氢氧化钾)

g/L

5-10

7.5

DYAg-II 添加剂 A

mL/L

20腔体为10

DYAg-II 添加剂 B

mL/L

10(腔体为5

四、操作条件

操作参数

单位

范围

最佳

PH

12.0-12.5

电流密度

挂镀

A/dm2

0.5-4.0

1.0

滚镀

A/dm2

0.2-0.5

0.5

温度

挂镀

20-40

25

滚镀

18-30

20

阳极 : 阴极

(面积比)

挂镀

1:1-2:1

> 2:1

滚镀

1:1-2:1

> 1:1

1μm所需时间

0.5 A/dm2

S

200

1.0 A/dm2

S

100

10.0 A/dm2

S

9.5

100.0A/dm2

S

0.95


五、添加剂功能及补充

添加剂

功能

补充(mL /KAh)

DYAg-II 添加剂 A

光亮剂,主要是电解消耗

500-700

DYAg-II 添加剂 B

结晶细化剂,主要是带出损耗

六、设备

1、用 PPPVCPTFE 等镀槽;

2、用 PP 滤芯连续过滤;

3、使用不锈钢、钛或 PTFE 传热设备;

4、采用阴极移动方式进行搅拌;

5、采用袋装的银板做阳极,亦可用铂/钛或不锈钢做不溶性阳极;

6、使用带电压表、电流表、及安培分钟计的整流设备。

七、槽液配制

1、在清洗干净的镀槽中,加入 1/2 体积的纯水。搅拌下加入氢氧化钾和氰化钾,搅拌至完全溶解。

2、用活性炭处理上述溶液(如果全部采用 AR 级的氰化钾等材料,则可省却此步)

3、将预先溶解在热纯水中的氰化银钾加入槽中。如果使用氰化银,则可将其直接加入槽中,搅拌至完全溶解;

4、搅拌下加入DYAg-II 添加剂 A DYAg-II 添加剂 B

5、调整好镀槽液位和镀液温度。

八、镀液维护

1、金属银的消耗量约为 4.0g/Ah,应经常分析和补充镀液中的银含量,使之维持在正常值。

2、当使用纯银阳极时,银阳极会自然溶解而能及时补充镀液中消耗掉的银。在停产时间,应该将银阳极从镀液中移开。

3、当使用不溶性阳极时,必须经常分析和补充镀液中的银。

4、经常分析和补加氢氧化钾,以保证镀液的 PH 维持在 12.0 以上。

5、定期分析补充氰化钾,特别是在使用不溶性阳极时,氰化物会在阳极上分解而消耗,另外当在高电流密度和在高温下操作时氰化钾的消耗量也会增加。

6、工件在进行镀光亮银之前,应先进行预镀银。


九、故障及纠正方法


故障表现

产生原因及纠正方法

镀层结晶粗糙、发黄、阳极易钝化

(1) 银含量高,分析后稀释镀液

(2) 游离氰化钾不足,分析补充

(3) 碳酸盐偏高,沉淀法去除

沉积速度慢、阴极效率低,阳极溶解快

(1) 银含量低,分析补充银盐

(2) 氰化钾含量过高,分析补充银盐

镀层发暗有斑点,阳极表面出现暗灰色膜

(1) 游离氰化钾少,分析补充

(2) 有机杂质污染,用活性碳处理

(3) 银阳极不纯,更换阳极,要求纯度大于99.98%

镀层薄而粗糙,并呈灰白色

(1) 游离氰化钾少,分析补充

(2) 阴极电流密度高,降低阴极电流密度

(3) 镀液温度过高,降低温度

镀层表面有黑色条纹

(1) 重金属杂质污染,以小电流电解处理

(2) 制件表面不纯,提高基材纯度或加镀一层铜

镀层起泡、脱落、结合力不良

(1) 前处理或预处理不良,必须加强

(2) 银含量高或氰化钾含量太少,增加氰化钾含量

(3) 阴极电流密度高,温度低,应予以调整

镀层表面易变色和泛斑点

(1) 银层表面清洗不良,应加强镀后清洗

(2) 银层太薄,应加厚银层

(3) 钝化处理不良,加强钝化处理或加有机膜保护

电流密度和时间不变,而镀层镀不厚或镀层不均匀

(1) 温度太低,升高温度

(2) 银离子浓度低,分析添加银盐

(3) 槽内镀液不均匀上稀下浓,加强阴极移动或连续过滤、搅拌镀液

滚镀时零件粗糙、镀层有桔皮状

(1) 前处理不良,应加强前处理

(2) 有置换镀层,加强预镀

(3) 阴极电流密度太高,应降低电流密度

(4) 游离氰化钾少,分析补充

铜与铜合金零件镀银后有断裂

(1) 零件本身应力太大,将零件回火消除应力

(2) 酸洗时间过长或过腐蚀,调整酸洗时间

几何形状复杂的零件深凹处银层有斑点

镀液覆盖能力差,用阴极移动或连续过滤得以改善


声明:此说明书是以本公司信赖的实验与资料为基础而制定,其内容不能用为侵犯版权的证据


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